Empujador de cutículas de cerámica Tana Cosmetics Ceramic Manicure Cuticle Stick
- Características
- Descripción
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Edad:
18+
Marca: Tana
Serie: accessories
Tipo de productos: espátulas de manicura
Material: cerámica
Para quién: mujer
Clasificación: natural
País de origen: Alemania
Hecho en: Alemania
Presentamos la herramienta innovadora para tu manicura perfecta: el Empujador Cerámico de Tana Cosmetics. Este palito único para cutículas, fabricado con material de alta calidad, está diseñado para el cuidado delicado de la placa de la uña y la cutícula. Su suave acción permite empujar cuidadosamente la cutícula y limpiar los bordes de las uñas, así como el área debajo de las uñas, sin causar daño o incomodidad. Usar el Empujador Cerámico de Tana Cosmetics será un momento clave en la creación de una manicura impecable, asegurando una apariencia ordenada y bien cuidada de tus manos.
Este palito de manicura es perfectamente adecuado tanto para el uso profesional en salones de belleza como para el cuidado de las uñas en casa. Su aplicación promueve el crecimiento saludable de las uñas y mantiene la condición ideal de la cutícula, previniendo su endurecimiento y la formación de padrastros. El Empujador Cerámico de Tana Cosmetics no solo es altamente funcional, sino que también presume de un diseño elegante que complementará tu conjunto de herramientas de manicura. Descubre un nuevo nivel de cuidado de las uñas con herramientas profesionales de Tana Cosmetics.
Características clave del Palito de Manicura Cerámico para Cutículas de Tana Cosmetics:
- Fabricado con material de alta calidad;
- Empuja suavemente la cutícula y limpia los bordes de las uñas;
- Adecuado tanto para uso profesional como doméstico;
- Promueve el crecimiento saludable de las uñas;
- Previene el endurecimiento de la cutícula y la formación de padrastros;
- Diseño elegante y alta funcionalidad;
- Asegura una apariencia de manos ordenada y bien cuidada;
- La herramienta perfecta para crear una manicura impecable;
- Conveniente para usar y fácil de mantener.